光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。那么光刻膠存儲是怎么樣的呢？
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。
光刻膠對光敏感，在光照或高溫條件下其性能會發生變化。光刻膠在儲存過程中會老化，因此通常保存在防光的棕色玻璃試劑瓶中（部分電子束膠由于對紫外波段不感光，有可能直接使用白色塑料瓶包裝），冷藏保存，并且紫外光刻膠只能在黃光（λ>500 nm）下進行處理。通常一款光刻膠的失效日期和建議的存儲溫度會標注產品標簽上。如果保持在這些溫度下，未開封的光刻膠將穩定到有效期（通常是生產后的2年，視產品不同略有不同）。通常光刻膠銷售時會有一個承諾有效日期，這個日期往往會小于瓶示質保期。需要區分。
溫度：對于絕大多數紫外光刻膠而言，通常建議的保存條件是5-10℃下保存（除制造商要求的特殊保存溫度外）。如果未打開的瓶子在低于佳溫度的條件下（例如，在5–8°C的溫度下與建議的10–18°C的溫度相比）存儲，則可以使一些光刻膠，在超過其有效期限外還可以保持光刻膠的特性并使用。
如果頻繁打開光刻膠試劑瓶會導致溶劑蒸發，光刻膠會增稠并因此產生較厚的膜。對于膜厚為1.4μm的光刻膠，僅損失1％的溶劑就已經導致4％的膜厚，因此帶來的影響是需要更高的曝光劑量。所以建議按照實際使用的量進行購買相應包裝規格的光刻膠。
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